OTSUKA大塚電子OPTM-A3光學(xué)測(cè)量膜厚計(jì)塔瑪薩崎電子中國(guó)代理

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• **反射率測(cè)量
• 膜厚分析
• 光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光系數(shù)）

半導(dǎo)體晶體管通過控制電流來(lái)傳輸信號(hào)，并嵌入絕緣膜以絕緣晶體管，以防止電流泄漏和另一個(gè)晶體管的電流通過任意通道。 絕緣膜含有SiO₂使用（二氧化硅）和SiN（氮化硅）。 二氧化硅₂用作絕緣膜，SiN為SiO₂作為更高的介電常數(shù)絕緣膜或作為不必要的SiO₂在去除 CMP 時(shí)用作塞子，然后去除 SiN。 因此，必須測(cè)量這些薄膜厚度，以確保絕緣薄膜的性能和**的過程控制。

液晶顯示器一般具有右圖所示的結(jié)構(gòu)。 CF在一個(gè)像素處具有RGB，是一種非常高清的微圖案。 主流的CF成膜方法是將顏料基彩色抗蝕劑涂在玻璃的整個(gè)表面，通過光刻技術(shù)曝光和顯影圖像，每個(gè)RGB只留下圖案化部分。 此時(shí)，管理薄膜厚度值很重要，因?yàn)槿绻噬刮g劑的厚度不是恒定的，則會(huì)導(dǎo)致圖案變形并作為濾色器的顏色變化。

近年來(lái)，使用具有各種功能的高性能薄膜的產(chǎn)品已經(jīng)變得司空見慣，并且根據(jù)用途，可能需要在薄膜表面具有摩擦，沖擊，耐熱和耐化學(xué)性等性能的保護(hù)膜。 通常形成硬涂層（HC）膜作為保護(hù)膜層，但是由于HC膜的厚度可能無(wú)法用作保護(hù)膜，可能會(huì)在薄膜上產(chǎn)生翹曲，或者可能導(dǎo)致外觀不均勻或變形，因此有必要控制HC層的厚度值。

ITO（氧化銦錫）是一種用于液晶顯示器的透明電極材料，在成膜后通過退火（熱處理）來(lái)提高導(dǎo)電性和色度。 那時(shí)，氧態(tài)和結(jié)晶度也會(huì)發(fā)生變化，但這種變化可能會(huì)隨著薄膜的厚度逐步改變斜率，并且不能將其視為具有光學(xué)均勻成分的單層薄膜。 對(duì)于這樣的 ITO，我們將介紹一個(gè)使用傾斜模型測(cè)量上下界面 nk 傾斜度的示例。

如果樣品表面有粗糙度，則可以將表面粗糙度建模為“粗糙度層”，其中大氣（空氣）和膜厚材料以1：1的比例混合以分析粗糙度和膜厚。 在這里，我們描述了一個(gè)測(cè)量表面粗糙度為幾納米的SiN（氮化硅）的示例。

干涉濾光片通過沉積膜厚和NK控制的膜，可以在指定的波長(zhǎng)波段內(nèi)具有任意的反射率和透射率。 其中，*高精度的薄膜是通過多次重復(fù)薄膜作為高折射率層和低折射率層的一對(duì)（組）而形成的。 描述了使用超晶格模型測(cè)量和分析此類樣品的示例。

OLED材料對(duì)氧氣和濕氣敏感，在正常氣氛中可能會(huì)改變或損壞。 因此，成膜后，立即用玻璃密封。 描述了在密封時(shí)通過玻璃測(cè)量薄膜厚度的示例。 玻璃和中間空氣層采用非干涉層模型。

為了使用*小二乘法進(jìn)行擬合并分析薄膜厚度值（D），需要材料的NK。 如果 nk 未知，它將 d 和 nk 解析為變量參數(shù)。 但是，對(duì)于D為100nm或更小的超薄膜，D和NK無(wú)法分離，這會(huì)降低精度并且可能無(wú)法提供準(zhǔn)確的D。 在這種情況下，測(cè)量具有不同d的多個(gè)樣品，并假設(shè)nk相同，則執(zhí)行同時(shí)分析（多點(diǎn)相同分析）。 這使得準(zhǔn)確找到 nk 和** d 成為可能。

對(duì)于基板表面未反射的粗糙度較大的樣品，散射會(huì)降低測(cè)量的光，并使測(cè)量的反射率低于實(shí)際水平。 通過使用界面系數(shù)考慮基板表面反射率的降低，可以測(cè)量基板上薄膜的膜厚值。 例如，我們將描述一個(gè)測(cè)量發(fā)際線成品鋁基板上樹脂膜厚度的示例。

DLC（類金剛石碳）是一種無(wú)定形碳基材料。 它具有高硬度、低摩擦系數(shù)、耐磨性、電絕緣性、高阻隔性、表面改性和與其他材料的親和力提高等特點(diǎn)，并用于各種應(yīng)用。 近年來(lái)，根據(jù)每種應(yīng)用對(duì)薄膜厚度測(cè)量的需求不斷增加。
DLC厚度測(cè)量通常通過破壞性檢查進(jìn)行，其中制備監(jiān)視器樣品并用電子顯微鏡觀察樣品的橫截面，但大冢電子采用的光學(xué)干涉膜測(cè)厚儀可以無(wú)損高速測(cè)量。 通過改變測(cè)量波長(zhǎng)范圍，可以測(cè)量從超薄膜到超厚薄膜的各種薄膜厚度。
通過采用獨(dú)特的顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)，可以實(shí)際測(cè)量形狀的樣品而不是監(jiān)視器樣品。 此外，通過在用監(jiān)視器檢查測(cè)量位置的同時(shí)進(jìn)行測(cè)量，可用于分析異常原因。
我們?yōu)楦鞣N形狀提供定制的傾斜和旋轉(zhuǎn)平臺(tái)。 可以測(cè)量實(shí)際樣品中的任何多個(gè)位置。
對(duì)于光學(xué)干涉膜厚系統(tǒng)的弱點(diǎn)，除非知道材料的光學(xué)常數(shù)（NK），否則無(wú)法進(jìn)行準(zhǔn)確的膜厚測(cè)量的問題，通過使用我們**的分析方法同時(shí)分析預(yù)先制備的多個(gè)不同厚度的樣品，可以獲得比傳統(tǒng)方法更高的NK：多點(diǎn)分析。
通過使用NIST（美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)與技術(shù)研究院）認(rèn)證的標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行校準(zhǔn)來(lái)保證可追溯性。

○ 齒輪 ○ 軸

■類金剛石薄膜厚度測(cè)量示例

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