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    • 支持從反射/透射型 LCD 填充單元到帶濾色器的空單元的各種單元
    • 非常適合FPD生產(chǎn)過程中的所有檢測,如濾色片光學(xué)特性檢測和玻璃基板膜厚檢測。
    • “一步操作”是一種追求用戶友好性的設(shè)備,無需任何繁重的工作,設(shè)置樣品即可立即看到結(jié)果。 該設(shè)備旨在縮短檢測過程,無需校準(zhǔn)曲線即可高精度、高分辨率地輕松找到優(yōu)良厚度。 由于使用了大冢電子開創(chuàng)的光學(xué)方法,因此可以在不接觸的情況下高精度測量不透明、粗糙表面和容易變形的樣品,同時節(jié)省空間。
    • 它以非接觸方式測量晶片等的研磨和拋光過程,具有超高速、實(shí)時和高精度的晶片和樹脂。
    • 除了可實(shí)現(xiàn)高精度薄膜分析的光譜橢偏儀外,我們還通過實(shí)施自動可變測量機(jī)制支持所有類型的薄膜。除了傳統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)光子檢測器方法外,還通過為延遲板提供自動安裝/拆卸機(jī)制來提高測量精度。
    • 實(shí)現(xiàn)具有波長依賴性的高精度多層膜測量
    • 它是一種緊湊、低成本的薄膜厚度計,它通過簡單的操作實(shí)現(xiàn)了高精度光學(xué)干涉測量的薄膜厚度測量。 我們采用一體式外殼,將必要的設(shè)備安裝在主體中,實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定的數(shù)據(jù)采集。 通過以低廉的價格獲得**反射率,可以分析光學(xué)常數(shù)。
    • 它是一種通過使用顯微光譜測量微小區(qū)域內(nèi)的優(yōu)良反射率,實(shí)現(xiàn)高精度膜厚和光學(xué)常數(shù)分析的設(shè)備。 可以以非破壞性和非接觸的方式測量各種薄膜、晶片、光學(xué)材料和多層薄膜等鍍膜的厚度。可進(jìn)行1秒/點(diǎn)測量時間的高速測量。它還配備了軟件,即使是初學(xué)者也可以輕松分析光學(xué)常數(shù)。
    • 能夠從低亮度到高亮度進(jìn)行高速、高精度測量的光譜輻射亮度計。 大冢電子獨(dú)特的光譜光學(xué)設(shè)計和信號處理電路采用電子冷卻線陣傳感器,實(shí)現(xiàn)了在寬亮度范圍和波長范圍內(nèi)的低噪聲和高精度測量。
    • 支持紫外到近紅外區(qū)域的多功能多通道光譜檢測器。光譜光譜可以在*少 5 ms 內(nèi)測量。標(biāo)準(zhǔn)光纖可以在不指定樣品類型的情況下支持各種測量系統(tǒng)。除了顯微光譜、光源發(fā)射、透射/反射測量外,還可以通過結(jié)合軟件支持物體顏色評估、膜厚測量等。

    蘇公網(wǎng)安備 32050502000409號