測(cè)量模式

空氣中接觸AFM；

液體接觸AFM（可選）；

空氣中的半接觸原子力顯微鏡；

液體半接觸原子力顯微鏡（可選）；

真正的非接觸式原子力顯微鏡；

動(dòng)態(tài)力顯微鏡（DFM、FM-AFM）；

耗散力顯微鏡；

Top模式；

相位成像；

側(cè)向力顯微鏡（LFM）；

力調(diào)制；

導(dǎo)電原子力顯微鏡（可選）；

I-Top模式（可選）；

磁力顯微鏡（MFM）；

開(kāi)爾文探針（表面電位顯微鏡）；

單通開(kāi)爾文探頭；

電容顯微鏡（SCM）

電力顯微鏡（EFM）；

單通道MFM/EFM（“平面掃描”）；

力曲線(xiàn)測(cè)量；

壓電響應(yīng)力顯微鏡（PFM）；

PFM Top模式；

納米光刻技術(shù)；

納米操縱；

STM（可選）；

光電流成像模式（可選）；

伏安特性測(cè)量（可選）；

帶音叉的剪切力顯微鏡（ShFM）；

音叉法向力顯微鏡。

液體測(cè)量模式（測(cè)試頭HE001）

接觸模式AFM；

半接觸原子力顯微鏡；

Top Mode；

相位成像；

側(cè)向力顯微鏡；

力調(diào)制；

力曲線(xiàn)測(cè)量；

納米蝕刻；

納米操縱。

SmartSPM掃描器和基座

閉環(huán)平板掃描器： 100 μm x 100 μm x 20 μm (±10 %)

掃描器非線(xiàn)性：XY≤0.05 %; Z≤0.05 %

噪聲水平：XY≤0.1 nm RMS（200 Hz帶寬，電容傳感器打開(kāi)）；XY≤0.02 nm RMS（100 Hz帶寬，電容傳感器關(guān)閉）；Z＜0.1 nm RMS （1000 Hz帶寬，電容傳感器開(kāi)）

高頻掃描器：XY≥7 kHz; Z≥15 kHz

基座

• 手動(dòng)樣品定位范圍：25 mm×25 mm
• 電動(dòng)SPM測(cè)量頭定位范圍：1.6 mm×1.6 mm
• 電動(dòng)趨近量程：1.3 mm
• 標(biāo)準(zhǔn)載玻片和蓋玻片樣品架
• 樣品尺寸（可選）：≥50.8 mm×50.8 mm×5 mm（中心25 mm×25 mm范圍內(nèi)可以任意區(qū)域成像）

AFM測(cè)試頭HE001

激光波長(zhǎng)：1300nm

激光對(duì)生物樣品無(wú)影響；

激光對(duì)光電測(cè)量無(wú)影響

系統(tǒng)噪聲：< 0.03 nm

全電動(dòng)：4步進(jìn)電機(jī)用于懸臂和光電二極管自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)；

探針通道：為外部操作和探針提供自由通道

頂部和側(cè)向同時(shí)光路通道：帶平消色差物鏡，可同時(shí)10x，NA0.28頂部物鏡和20x，NA0.42側(cè)向物鏡

液體電池（可選）

手動(dòng)樣品定位：15x15mm，定位分辨率1um；

培養(yǎng)皿支架：直徑35mm；

液體體積：1.5-2.5ml；

液體交換：雙管道

導(dǎo)電力AFM（選購(gòu)）

電流范圍：100fA~10μA;

三檔量程自動(dòng)切換（1nA, 100nA和10μA）

電壓范圍：-10~ +7V

電流噪聲：≤60fA（1nA量程）

兼容倒置光學(xué)顯微鏡：

紅外激光對(duì)光學(xué)成像無(wú)干擾；

可兼容以下顯微鏡：

尼康Ti-E、Ti-U、Ti-S、TE2000；奧林巴斯IX-71，IX-81；

相位反差、DIC和熒光技術(shù)（需本征光學(xué)聚光器）；

可升級(jí)到TRIOS平臺(tái)，用于光譜和TERS操作。

光學(xué)顯微鏡

數(shù)值孔徑：NA 0.1；

放大倍率：從85x到1050x（19英寸監(jiān)視器，1/3英寸CCD）；

水平視野：4.5～0.37mm；

手動(dòng)變焦：12.5倍；

粗/精對(duì)焦單元：

兼容平顯色差物鏡：10x，NA 0.28和20x，NA 0.42和100x，NA0.7（取決于AFM測(cè)試頭）

軟件系統(tǒng)

自動(dòng)準(zhǔn)直系統(tǒng)；

自動(dòng)配置標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量技術(shù)；

自動(dòng)調(diào)節(jié)懸臂梁共振頻率；

能夠處理力曲線(xiàn)；

宏語(yǔ)言Lua，用于編程用戶(hù)函數(shù)、腳本和小構(gòu)件；

能用DSP宏語(yǔ)言對(duì)控制器進(jìn)行實(shí)時(shí)編程，無(wú)需重新加載控制軟件；

在坐標(biāo)空間處理圖像的能力，包括制作橫截面、擬合和高達(dá)8級(jí)的多項(xiàng)式曲面減法；

FFT處理，具有在頻率空間處理圖像的能力，包括濾波和分析；

納米蝕刻和納米操縱；

高達(dá)5000x5000像素圖像的處理能力