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產(chǎn)品中心
產(chǎn)品詳情

  • 產(chǎn)品名稱：SAMCO ICP蝕刻裝置 RIE-400iPC

  • 產(chǎn)品型號：
  • 產(chǎn)品廠商：SAMCO薩姆肯
  • 產(chǎn)品價格：0
  • 折扣價格：0
  • 產(chǎn)品文檔：
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簡單介紹：
高密度等離子蝕刻裝置，采用電感耦合等離子體（工業(yè)塑料廣場）作為放電形式。 該裝置是一種全 面生產(chǎn)設(shè)備，具有真空盒室，具有優(yōu)異的工藝可重復性和穩(wěn)定性。 它成為直徑為 ±4 英寸的晶圓專用設(shè)備，可以安裝在節(jié)省空間的地方。
詳情介紹：

概述

高密度等離子蝕刻裝置，采用電感耦合等離子體（工業(yè)塑料廣場）作為放電形式。 該裝置是一種全 面生產(chǎn)設(shè)備，具有真空盒室，具有優(yōu)異的工藝可重復性和穩(wěn)定性。 它成為直徑為 ±4 英寸的晶圓專用設(shè)備，可以安裝在節(jié)省空間的地方。

特點

新型ICP源「HSTC?： Hyper Symmetrical Tornado Coil」

高射頻功率（2 kW 或更高）可高效、穩(wěn)定地應(yīng)用，以實現(xiàn)良好的均勻性。

大流量排氣系統(tǒng)

通過采用與反應(yīng)室直接相連的排氣系統(tǒng)，實現(xiàn)了從小流量、低壓區(qū)域到大流量、高壓范圍的各種工藝窗口。

支持端點監(jiān)視器

它支持干涉型和發(fā)光光譜端點監(jiān)視器，可在目標薄膜厚度下進行端點檢測。

易于維護的設(shè)計

TMP（渦輪分子泵）和高頻電源單元化，便于更換。

應(yīng)用示例

? 高精度加工化合物半導體，如 GaN、GaAs 和 InP

?高速加工SiC、SiO

? 蝕刻難蝕刻材料，如鐵電體（PZT、BST、SBT、BT）和電極材料（Pt、Au、Ru、Al）

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