熱門搜索：
代理日本品牌：OTSUKA大塚電子（薄膜測(cè)厚儀、相位差膜設(shè)備等）、USHIO牛尾點(diǎn)光源、CCS檢查光源、Aitec艾泰克、REVOX萊寶克斯、ONOSOKKI小野測(cè)器、YAMATO雅馬拓、KOSAKA小坂臺(tái)階儀、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壺坂電機(jī)、NEWKON新光、TOKISANGYO東機(jī)產(chǎn)業(yè)、tokyokeiso東京計(jì)裝、leimac雷馬克、MIKASA米卡薩勻膠機(jī)、COSMO科斯莫、SAKURAI櫻井無塵紙、TOE東京光電子、EYE巖崎UV燈管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV愛睦威地震儀、HOKUYO北陽電機(jī)、SAKAGUCHI坂口電熱、ThreeBond三鍵膠水等.
產(chǎn)品中心
-
Stucchi思多奇
-
NITTO KOHKI日...
-
Sankei
-
KYOWA協(xié)和工業(yè)
- DIT東日技研
- AITEC艾泰克
-
SIGMAKOKI西格瑪...
- REVOX萊寶克斯
- CCS 希希愛視
- SIMCO思美高
- POLARI0N普拉瑞
- HOKUYO北陽電機(jī)
- SSD西西蒂
- EMIC 愛美克
- TOFCO東富科
-
打印機(jī)
- HORIBA崛場(chǎng)
- OTSUKA大冢電子
- MITAKA三鷹
- EYE巖崎
- KOSAKA小坂
-
SAGADEN嵯峨電機(jī)
- TOKYO KEISO東...
- takikawa 日本瀧...
- Yamato雅馬拓
- sanko三高
- SEN特殊光源
-
SENSEZ 靜雄傳感器
- marktec碼科泰克
- KYOWA共和
- FUJICON富士
- SANKO山高
-
Sugiyama杉山電機(jī)
-
Osakavacuum大...
-
YAMARI 山里三洋
- ACE大流量計(jì)
- KEM京都電子
- imao今尾
- AND艾安得
- EYELA東京理化
- ANRITSU安立計(jì)器
- JIKCO 吉高
- NiKon 尼康
- DNK科研
- Nordson諾信
- PISCO匹斯克
- NS精密科學(xué)
- NDK 日本電色
-
山里YAMARI
- SND日新
-
Otsuka大塚電子
- kotohira琴平工業(yè)
- YAMABISHI山菱
- OMRON歐姆龍
- SAKURAI櫻井
- UNILAM優(yōu)尼光
-
氙氣閃光燈
-
UV反轉(zhuǎn)曝光系統(tǒng)
-
UV的水處理
-
檢測(cè)系統(tǒng)
-
光照射裝置
-
點(diǎn)光源曝光
-
變壓型電源供應(yīng)器
-
超高壓短弧汞燈
-
UV光洗凈
-
UV曝光裝置
-
uv固化裝置
-
紫外可見光光度計(jì)
產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹：
PD-330STC 是一種用于形成絕緣膜的等離子 CVD 設(shè)備，專為 TSV（Si 通孔）開發(fā)。
詳情介紹：
概述
PD-330STC 是一種用于形成絕緣膜的等離子 CVD 設(shè)備，專為 TSV（Si 通孔）開發(fā)。 大面積基板兼容機(jī)，將久經(jīng)考驗(yàn)的 PD-270ST 系列改造為 ±300mm 硅晶圓，可在低溫下以液體源 TEOS 為原料，形成高質(zhì)量的 SiO+ 膜。 采用專有的陰極耦合方法，在三維LSI的TSV形成過程中，可以在高縱橫比的通孔側(cè)壁上形成具有優(yōu)異的覆蓋性的TEOS-SiO+膜。
特點(diǎn)
±300mm 晶圓的薄膜形成
可實(shí)現(xiàn)良好的平面內(nèi)均勻性和出色的穩(wěn)定性。
采用高速成膜和應(yīng)力控制
開創(chuàng)的陰極耦合法，可實(shí)現(xiàn)高速（100nm/min以上）和低應(yīng)力成膜。
低溫成膜
可在80°C~的低溫成膜，也可以在塑料上成膜。
LSCVD® 方法使用 TEOS 的沉積
液體源，具有出色的步進(jìn)覆蓋和嵌入特性。
應(yīng)用示例
TSV側(cè)壁絕緣膜形成
三維LSI的貫通通孔形成工藝中的側(cè)壁的絕緣膜形成
產(chǎn)品留言
標(biāo)題
聯(lián)系人
聯(lián)系電話
內(nèi)容
注：1.可以使用快捷鍵Alt+S或Ctrl+Enter發(fā)送信息!
2.如有必要,請(qǐng)您留下您的詳細(xì)聯(lián)系方式!
2.如有必要,請(qǐng)您留下您的詳細(xì)聯(lián)系方式!
