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  • 產品名稱：近接曝光裝置 日本DNK蘇州銷售MA-6701ML

  • 產品型號： MA-6701ML
  • 產品廠商：DNK 科研
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簡單介紹：
主要特長 直立配置掩膜臺/基板臺。不需補正由掩膜/掩膜臺/基板臺的自身重量而造成的彎曲變形,構造簡單，安定性高。 采用新型光學系統,使影響圖形轉印精度的傾斜角降低至過去的一半以下(與本公司裝置相比),可實現更高精度的圖形轉印。 完全分離本體與光源部。光源的熱量傳遞不到本體,改善了本體部的熱量分布水準。 為了防止因掩膜及玻璃基板的溫度差造成的伸縮變形,可選擇基板臺溫度控制系統及掩膜冷卻系統。(選購項) *大基板尺寸為1,200mm×1,400mm。通過獨自的光學系統實現了均勻的一次性曝光。 能夠裝載存放5張掩膜的掩膜存放庫
詳情介紹：

主要規(guī)格

MA-6701ML MA-6801ML MA-6131ML
基板尺寸 550 x 650mm 650 x 750mm 1100 x 1300mm
掩膜尺寸 620 x 720 x t8.0mm 700 x 800 x t8.0mm 1200 x 1400 x t4.8mm
對位 非接觸預對位～自動對位
間隙 擁有傳感性能
光源 超高壓水銀燈：8kW 超高壓水銀燈：8kW 超高壓水銀燈：18kW
外觀尺寸及重量 本體尺寸 W3500 x D2720 x H2700 mm W4150 x D3200 x H2900 mm W11300 x D7060 x H3350 mm
本體重量 3500kg 3800kg 12700kg
光源重量 800kg 1150kg 4200kg
選購項 掩膜冷卻、基板臺溫度調節(jié)、溫控機房、特殊對位照明
用途 觸摸屏、彩色濾光片、有機EL、C－STN、電子紙等

※基板尺寸和水銀燈瓦數及特殊規(guī)格可商洽

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