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光照射裝置
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點(diǎn)光源曝光
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變壓型電源供應(yīng)器
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超高壓短弧汞燈
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UV光洗凈
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UV曝光裝置
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uv固化裝置
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紫外可見(jiàn)光光度計(jì)
膜厚量測(cè)儀 FE-300
產(chǎn)品信息
特 長(zhǎng)
薄膜到厚膜的測(cè)量范圍、UV~NIR光譜分析
高性能的低價(jià)光學(xué)薄膜量測(cè)儀
藉由**反射率光譜分析膜厚
完整繼承FE-3000**機(jī)種90%的強(qiáng)大功能
無(wú)復(fù)雜設(shè)定，操作簡(jiǎn)單，短時(shí)間內(nèi)即可上手
線(xiàn)性*小平方法解析光學(xué)常數(shù)（n:折射率、k:消光系數(shù)）
測(cè)量項(xiàng)目
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**反射率測(cè)量
-
膜厚解析（10層）
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光學(xué)常數(shù)解析（n：折射率、k：消光系數(shù)）
產(chǎn)品規(guī)格
|
樣品尺寸 |
*大8寸晶圓（厚度5mm） |
|||
|---|---|---|---|---|
|
測(cè)量時(shí)間 |
0.1s ~ 10s以?xún)?nèi) |
|||
|
量測(cè)口徑 |
約φ3mm |
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|
通訊界面 |
USB |
|||
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尺寸重量 |
280（W）× 570（D）×350（H）mm，約24kg |
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軟體功能 |
||||
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標(biāo)準(zhǔn)功能 |
波峰波谷解析、FFT解析、*適化法解析、*小二乘法解析 |
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選配功能 |
材料分析軟件、薄膜模型解析、標(biāo)準(zhǔn)片解析 |
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※1 請(qǐng)于本公公司聯(lián)系聯(lián)系我們
※2 對(duì)比VLSI標(biāo)準(zhǔn)樣品（100nm SiO2/Si），范圍值同保證書(shū)所記載
※3 測(cè)量VLSI標(biāo)準(zhǔn)樣品（100nm SiO2/Si）同一點(diǎn)位時(shí)之重復(fù)再現(xiàn)性。（擴(kuò)充系數(shù)2.1）
應(yīng)用范圍
半導(dǎo)體晶圓膜（光阻、SOI、SiO2等）
光學(xué)薄膜（OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等）
測(cè)量范例
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PET基板上的DLC膜
-
Si基板上的SiNx
2.如有必要,請(qǐng)您留下您的詳細(xì)聯(lián)系方式!
