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代理日本品牌：OTSUKA大塚電子（薄膜測(cè)厚儀、相位差膜設(shè)備等）、USHIO牛尾點(diǎn)光源、CCS檢查光源、Aitec艾泰克、REVOX萊寶克斯、ONOSOKKI小野測(cè)器、YAMATO雅馬拓、KOSAKA小坂臺(tái)階儀、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壺坂電機(jī)、NEWKON新光、TOKISANGYO東機(jī)產(chǎn)業(yè)、tokyokeiso東京計(jì)裝、leimac雷馬克、MIKASA米卡薩勻膠機(jī)、COSMO科斯莫、SAKURAI櫻井無塵紙、TOE東京光電子、EYE巖崎UV燈管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV愛睦威地震儀、HOKUYO北陽電機(jī)、SAKAGUCHI坂口電熱、ThreeBond三鍵膠水等.
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頭部集成了薄膜厚度測(cè)量所需功能 通過顯微光譜法測(cè)量高精度**反射率（多層膜厚度，光學(xué)常數(shù)） 1點(diǎn)1秒高速測(cè)量 顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)（紫外至近紅外） 區(qū)域傳感器的**機(jī)制 易于分析向?qū)?，初學(xué)者也能夠進(jìn)行光學(xué)常數(shù)分析 獨(dú)立測(cè)量頭對(duì)應(yīng)各種inline客制化需求 支持各種自定義 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Otsuka大塚 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Ots
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頭部集成了薄膜厚度測(cè)量所需功能 通過顯微光譜法測(cè)量高精度**反射率（多層膜厚度，光學(xué)常數(shù)） 1點(diǎn)1秒高速測(cè)量 顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)（紫外至近紅外） 區(qū)域傳感器的**機(jī)制 易于分析向?qū)В鯇W(xué)者也能夠進(jìn)行光學(xué)常數(shù)分析 獨(dú)立測(cè)量頭對(duì)應(yīng)各種inline客制化需求 支持各種自定義 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Otsuka大塚 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Ots
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ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000S分子粒徑量測(cè)系統(tǒng)ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000S分子粒徑量測(cè)系統(tǒng)ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000S分子粒徑量測(cè)系統(tǒng) 此設(shè)備可測(cè)量濃度低的溶液～濃度高的溶液的ZETA電位?粒徑及分子量。 粒徑測(cè)量范圍（0.6nm～10μm），濃度范圍（0.00001%～40%）。實(shí)測(cè)電氣滲透流，高精度的ZETA電位測(cè)量，*小容量是130μL～的一次性cell
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ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000Z分子粒徑量測(cè)系統(tǒng)ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000Z分子粒徑量測(cè)系統(tǒng)ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000Z分子粒徑量測(cè)系統(tǒng) 此設(shè)備可測(cè)量濃度低的溶液～濃度高的溶液的ZETA電位?粒徑及分子量。 粒徑測(cè)量范圍（0.6nm～10μm），濃度范圍（0.00001%～40%）。實(shí)測(cè)電氣滲透流，高精度的ZETA電位測(cè)量，*小容量是130μL～的一次性cell
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頭部集成了薄膜厚度測(cè)量所需功能 通過顯微光譜法測(cè)量高精度**反射率（多層膜厚度，光學(xué)常數(shù)） 1點(diǎn)1秒高速測(cè)量 顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)（紫外至近紅外） 區(qū)域傳感器的**機(jī)制 易于分析向?qū)?，初學(xué)者也能夠進(jìn)行光學(xué)常數(shù)分析 獨(dú)立測(cè)量頭對(duì)應(yīng)各種inline客制化需求 支持各種自定義 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Otsuka大塚 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Otsuka大塚 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Otsuka大塚
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彩色濾光片分光特性測(cè)量裝置OTSUKA大冢LCF SERIES 彩色濾光片分光特性測(cè)量裝置OTSUKA大冢LCF SERIES 彩色濾光片分光特性測(cè)量裝置OTSUKA大冢LCF SERIES
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OTSUKA大冢液晶層間隙量測(cè)設(shè)備RETS series OTSUKA大冢液晶層間隙量測(cè)設(shè)備RETS series OTSUKA大冢液晶層間隙量測(cè)設(shè)備RETS series
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日本OTSUKA大冢相位差膜?光學(xué)材料檢查設(shè)備RETS-100 日本OTSUKA大冢相位差膜?光學(xué)材料檢查設(shè)備RETS-100 日本OTSUKA大冢相位差膜?光學(xué)材料檢查設(shè)備RETS-100
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日本大冢高速配光測(cè)量系統(tǒng)GP-7 日本大冢高速配光測(cè)量系統(tǒng)GP-7 日本大冢高速配光測(cè)量系統(tǒng)GP-7
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