Filmetrics薄膜厚度儀F20美國KLA Instruments
 KLA的 Filmetrics 系列利用光譜反射技術(shù)實(shí)現(xiàn)薄膜厚度的**測(cè)量，其測(cè)量范圍從 nm-mm，可實(shí)現(xiàn)如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導(dǎo)體膜、有機(jī)薄膜、導(dǎo)電透明薄膜等膜厚**測(cè)量，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。Filmetrics 具有 F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t 等多款產(chǎn)品，可測(cè)量從幾 mm 到 450mm 大小的樣品，薄膜厚度測(cè)量范圍 1nm 到mm 級(jí)。

       Filmetrics薄膜厚度儀F20美國KLA Instruments測(cè)量原理-光譜反射

       光譜橢圓偏振儀 (SE) 和光譜反射儀 (SR) 都是利用分析反射光確定電介質(zhì)，半導(dǎo)體，和金屬薄膜的厚度和折射率。 兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測(cè)量小角度從薄膜反射的光, 而光譜反射儀測(cè)量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測(cè)量的是垂直光，它忽略偏振效應(yīng) （絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對(duì)稱）。 因?yàn)椴簧婕岸喾N移動(dòng)設(shè)備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強(qiáng)大透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過 10um 的優(yōu)選，而橢偏儀側(cè)重薄于 10nm 的膜厚。在 10nm 到 10um 厚度之間，兩種技術(shù)都可用。

Filmetrics薄膜厚度儀F10-HC、Filmetrics薄膜厚度儀F20、Filmetrics薄膜厚度儀F32、Filmetrics薄膜厚度儀F40、Filmetrics薄膜厚度儀F50、Filmetrics薄膜厚度儀F60-t，美國KLA Instruments薄膜厚度儀F10-HC、美國KLA Instruments薄膜厚度F20、美國KLA Instruments薄膜厚度F32、美國KLA Instruments薄膜厚度F40、美國KLA Instruments薄膜厚度F50、美國KLA Instruments薄膜厚度F60-t

 Filmetrics薄膜厚度儀F20美國KLA Instruments主要應(yīng)用

    測(cè)量厚度、折射率、反射率和穿透率：

• 單層膜或多層膜疊加
• 單一膜層
• 液態(tài)膜或空氣層

    Filmetrics薄膜厚度儀F20美國KLA Instruments技術(shù)能力

    光譜波長范圍：190-1700 nm

    厚度測(cè)量范圍：1nm-250 μm

    測(cè)量n&k小厚度：50 nm

    準(zhǔn)確度：取較大值，1nm 或 0.2%

    分辨率：0.02nm

    穩(wěn)定性：0.05nm

    光斑大?。?/span>1.5mm

    樣品尺寸：直徑從 1mm 到 300mm 或更大

Filmetrics薄膜厚度儀F20美國KLA Instruments

Filmetrics薄膜厚度儀F20美國KLA Instruments