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代理日本品牌：OTSUKA大塚電子（薄膜測厚儀、相位差膜設(shè)備等）、USHIO牛尾點光源、CCS檢查光源、Aitec艾泰克、REVOX萊寶克斯、ONOSOKKI小野測器、YAMATO雅馬拓、KOSAKA小坂臺階儀、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壺坂電機、NEWKON新光、TOKISANGYO東機產(chǎn)業(yè)、tokyokeiso東京計裝、leimac雷馬克、MIKASA米卡薩勻膠機、COSMO科斯莫、SAKURAI櫻井無塵紙、TOE東京光電子、EYE巖崎UV燈管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV愛睦威地震儀、HOKUYO北陽電機、SAKAGUCHI坂口電熱、ThreeBond三鍵膠水等.
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產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司OTSUKA大塚 Zeta電位，粒徑，分子量測量系統(tǒng) ELSZneo
OTSUKA大塚橢圓光譜儀 FE-5000/5000S
詳情介紹：
特征
- 可在紫外可見光（300~800nm）波長范圍內(nèi)進行橢圓參數(shù)測量。
- 能夠?qū){米量級的多層薄膜進行膜厚分析
- 通過 400 個或更多通道的多通道光譜快速測量橢圓光譜
- 用于薄膜詳細分析的可變反射角測量
- 通過創(chuàng)建光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫和添加配方注冊功能來提高可操作性
測量項目
- 橢圓參數(shù) （tanψ， cosΔ） 測量
- 光學(xué)常數(shù)（n：折射率，k：消光系數(shù)）分析
- 膜厚分析
測量對象
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半導(dǎo)體晶片
柵極氧化薄膜、氮化物薄膜
SiO2，Si x Oy，SiN，SiON，SiNx，Al2O3罪xOy，多晶硅，硒化鋅，BPSG，TiN
光刻膠光學(xué)常數(shù)（波長色散） -
化合物半導(dǎo)體
鋁x加語（1-x）作為多層，非晶硅 -
FPD
取向膜 -
各種新材料
DLC（類金剛石碳）、超導(dǎo)薄膜、磁頭薄膜 -
光學(xué)薄膜
TiO2，SiO2，防反射膜 -
在 G 線 （436nm）、H 線 （405nm） 和 I 線 （365nm）
等波長下進行光刻 N，K 評估
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